水蒸気導入によるエッチング用H2O-ICPのプラズマ観測

論文・著書情報

タイトル

和文:	水蒸気導入によるエッチング用H2O-ICPのプラズマ観測
英文:	Plasma Characterization of H2O-Inductively Coupled Plasma for Dry Etching

著者

和文:	松谷晃宏, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
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巻, 号, ページ

No. P1-52 pp. 139-140

出版年月

2007年2月

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第24回プラズマプロセシング研究会
英文:	The 24th Symnposium on Plasma Processing

開催地

和文:	千里ライフサイエンスセンター
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