Development of Xe and Sn Discharge Produced Plasma Light Source for EUV Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Development of Xe and Sn Discharge Produced Plasma Light Source for EUV Lithography

著者

和文:	渡邊正人, 岸望, Jiang Fei, 沖野晃俊, Bong-Seong Kim, Kwang-Cheol Ko, 堀岡一彦, 堀田栄喜.
英文:	Masato Watanabe, Nozomu Kishi, Jiang Fei, Akitoshi Okino, Bong-Seong Kim, Kwang-Cheol Ko, Kazuhiko Horioka, Eiki Hotta.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

pp. SO-P01

出版年月

2007年10月

出版者

和文:
英文:	SEMATECH

会議名称

和文:
英文:	2007 International EUVL Symposium

開催地

和文:
英文:	Sapporo, Japan