MOCVD 法によるエピタキシャル酸化物薄膜の合成と成長機構

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVD 法によるエピタキシャル酸化物薄膜の合成と成長機構
英文:	Preparation of Epitaxial LiNbO₃ Thin Film by MOCVD and Its Properties

著者

和文:	諸橋倫大郎, 脇谷尚樹, 木口賢紀, 吉岡朋彦, 田中順三, 篠崎和夫.
英文:	Rintaro Morohashi, Naoki Wakiya, Takanori Kiguchi, Tomohiko Yoshioka, Junzo Tanaka, Kazuo Shinozaki.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第27回エレクトロセラミックス研究討論会
英文:	The 27th Electronics Division Meeting, The Ceramic Society of Japan

巻, 号, ページ

no. 1B11 p. 25

出版年月

2007年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第27回エレクトロセラミックス研究討論会
英文:	The 27th Electronics Division Meeting, The Ceramic Society of Japan

開催地

和文:	東京
英文: