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論文・著書情報


タイトル
和文:FeCoB/NiFe/Si薄膜における高周波透磁率特性の基礎検討 
英文: 
著者
和文: 橋本 篤人, 伊東 祐史, 中川 茂樹, 山口 正洋.  
英文: Atsuto Hashimoto, 伊東 祐史, Shigeki Nakagawa, 山口 正洋.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第30回日本応用磁気学会学術講演会講演概要集 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2006年9月 
出版者
和文:日本応用磁気学会 
英文: 
会議名称
和文:第30回日本応用磁気学会学術講演会 
英文: 
開催地
和文:松江（島根大学）/日本 
英文: 

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