Fabrication of HfO2 Thin Film on Si Substrate by Double-Pulse Excitation PLD

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of HfO2 Thin Film on Si Substrate by Double-Pulse Excitation PLD

著者

和文:	Tomohiro Tabara, 脇谷尚樹, 木口賢紀, 田中順三, 篠崎和夫.
英文:	Tomohiro Tabara, Naoki Wakiya, Takanori Kiguchi, Junzo Tanaka, Kazuo Shinozaki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Key Engineering Materials

巻, 号, ページ

Vol. 350 p. 129-132

出版年月

2007年6月

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI