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論文・著書情報


タイトル
和文:高濃度n+-Si 及びp+-Si基板上のNiシリサイドの熱安定性の違い 
英文: 
著者
和文: パールハット アヘメト, 筒井一生, 角嶋邦之, 杉井 信之, 知京 豊裕, 服部健雄, 長田 貴弘, 岩井洋.  
英文: Parhat Ahmet, KAZUO TSUTSUI, Kuniyuki KAKUSHIMA, Nobuyuki Sugii, 知京 豊裕, takeo hattori, 長田 貴弘, HIROSHI IWAI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:春季第55回応用物理学会学術講演会予稿集 
英文: 
巻, 号, ページ     No. 0    pp. 896
出版年月 2008年3月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:春季第55回応用物理学会学術講演会 
英文: 
開催地
和文:日本大学 
英文: 

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