Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文:XoF2プラズマによるSiの垂直平滑ドライエッチング 
英文:Vertical and Smooth Dry Etching of Si by XeF2 Plasma 
著者
和文: 松谷晃宏, 大槻秀夫, 小山二三夫.  
英文: Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第69回応用物理学会学術講演会 
英文:The 69th Autumn Meeting of JSAP 
巻, 号, ページ     2a-A-6   
出版年月 2008年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文:愛知 
英文:Aichi 

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.