Characterization of a-SiOx:H Passivation Layer Prepared by rf and VHF PECVD Techniques

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of a-SiOx:H Passivation Layer Prepared by rf and VHF PECVD Techniques

著者

和文:	ラッタナパンスティラット, 山本紘史, 杉浦勉, リマニーアモーンラット, 佐藤剛彦, 山田明, 小長井誠.
英文:	Suttirat Rattanapan, Hiroshi Yamamoto, Tsutomu Sugiura, リマニーアモーンラット, takehiko sato, AKIRA YAMADA, MAKOTO KONAGAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2008年3月

出版者

和文:
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会議名称

和文:	2008年春季第55回応用物理学関係連合講演会
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開催地

和文:	日本大学理工学部船橋キャンパス
英文: