XeF2プラズマによるSiのドライエッチングにおける発光分光観測

論文・著書情報

タイトル

和文:	XeF2プラズマによるSiのドライエッチングにおける発光分光観測
英文:	Observation of Optical Emission of XeF2 Plasma in Dry Etching

著者

和文:	松谷晃宏, 大槻秀夫, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第56回応用物理学関係連合講演会
英文:	The 56th Spring Meeting of Japan Society of Applied Physics

巻, 号, ページ

1a-N-3

出版年月

2009年3月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:	つくば
英文:	Tsukuba