Positive-working photoresist based on a first-generation dendrimer consisting of 3,5-bis(tetrahydropyranyloxy)benzyl units

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Positive-working photoresist based on a first-generation dendrimer consisting of 3,5-bis(tetrahydropyranyloxy)benzyl units

著者

和文:	伊藤由明子, 東原知哉, 上田充.
英文:	Yumiko Ito, Tomoya Higashihara, Mitsuru Ueda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Photopolym. Sci.＆Technol.,

巻, 号, ページ

Vol. 21 pp. 799-803

出版年月

2008年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

DOI