The Effect of Precursor Ligands on the Deposition Characteristics of Ru Films by MOCVD

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	The Effect of Precursor Ligands on the Deposition Characteristics of Ru Films by MOCVD

著者

和文:	河野和久, Hiroaki Kosuge, Noriaki Oshima, 舟窪浩.
英文:	Kazuhisa Kawano, Hiroaki Kosuge, Noriaki Oshima, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Electrochem. Solid-State Lett.

巻, 号, ページ

Vol. 12 No. 10 pp. D80-D83

出版年月

2009年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI