Relationship between mobility and high-k interface properties in advanced Si and SiGe nanowires

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Relationship between mobility and high-k interface properties in advanced Si and SiGe nanowires

著者

和文:	舘喜一, M.Casse, D.Jang, C.Dupre, A.Hubert, N.Vulliet, C. Maffini-Alvaro, C. Vizioz, C. Carabasse, V. Delaye, J.M.Hartmann, G.Ghibaudo, 岩井洋, S. Cristoloveanu, O. Faynot, T.Ernst.
英文:	Kiichi Tachi, M.Casse, D.Jang, C.Dupre, A.Hubert, N.Vulliet, C. Maffini-Alvaro, C. Vizioz, C. Carabasse, V. Delaye, J.M.Hartmann, G.Ghibaudo, HIROSHI IWAI, S. Cristoloveanu, O. Faynot, T.Ernst.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2009年12月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	IEDM 2009

開催地

和文:
英文:	Baltimore, USA