Ar/F2 を用いたSi の反応性イオンエッチングにおけるプラズマの特性

論文・著書情報

タイトル

和文:	Ar/F2 を用いたSi の反応性イオンエッチングにおけるプラズマの特性
英文:	Characterization of Process Plasma in Reactive Ion Etching Using Ar/F2

著者

和文:	松谷晃宏, 大槻秀夫, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第57回応用物理学関係連合講演会
英文:	The 57th Spring Meeting of Japan Society of Applied Physics and Related Societies

巻, 号, ページ

18a-S-7

出版年月

2010年3月

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:	神奈川
英文:	Kanagawa