溶媒キャストフィルムにおける残留ひずみ発現メカニズムとその軽減に関する研究

論文・著書情報

タイトル

和文:	溶媒キャストフィルムにおける残留ひずみ発現メカニズムとその軽減に関する研究
英文:	Study on the Origin of Residual Strain and Ways to Reduce It in Solvent Cast Film

著者

和文:	勝又麗香, 阿多誠介, 久保山敬一, 扇澤敏明.
英文:	Reika Katsumata, Seisuke Ata, Keiichi Kuboyama, TOSHIAKI OUGIZAWA.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	高分子学会予稿集
英文:	Polymer Preprints, Japan

巻, 号, ページ

Vol. 58 No. 1 p. 658

出版年月

2009年5月

出版者

和文:	高分子学会
英文:	Society of Polymer Science, Japan

会議名称

和文:	第58回高分子学会年次大会
英文:	58th SPSJ Annual Meeting

開催地

和文:	神戸国際会議場（神戸市）
英文:	Kobe International Conference Center (Kobe)