バッファー層を用いたYSZ基板上In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜のヘテロエピタキシャル成長 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	バッファー層を用いたYSZ基板上In₂O₃薄膜のヘテロエピタキシャル成長
英文:

著者

和文:	小田聖翔, 奥出正樹, 大友明, 川崎雅司.
英文:	Masato Oda, Masaki Okude, Akira Ohtomo, Masashi Kawasaki.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2009年9月

出版者

和文:
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会議名称

和文:	2009年秋季第70回応用物理学会学術講演会
英文:

開催地

和文:	富山
英文:

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