Effects of plasma dynamics on the EUV emission from laser assisted discharge produced Sn plasma EUV source

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effects of plasma dynamics on the EUV emission from laser assisted discharge produced Sn plasma EUV source

著者

和文:	ｽﾞｷｭｼ, 山田淳三郎, 岸望, 渡邊正人, 沖野晃俊, 堀岡一彦, 堀田栄喜.
英文:	Qiushi Zhu, Junzaburo Yamada, Nozomu Kishi, Masato Watanabe, Akitoshi Okino, Kazuhiko Horioka, Eiki Hotta.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Web

巻, 号, ページ

出版年月

2010年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2010 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography

開催地

和文:
英文:	Kobe, Japan