Dry Etching of Si by Solid Source I2 Inductively Coupled Plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Dry Etching of Si by Solid Source I2 Inductively Coupled Plasma

著者

和文:	松谷晃宏, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

11D-8-54

出版年月

2010年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference,MNC2010

開催地

和文:
英文:	Fukuoka