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論文・著書情報


タイトル
和文:サイドゲートとトップゲートを用いたシリコン二重結合量子ドット形成シミュレーション 
英文: 
著者
和文: 蒲原知宏, 小寺哲夫, 山端元音, 内田 建, 小田俊理.  
英文: Tomohiro Kambara, Tetsuo Kodera, Gento Yamahata, Ken Uchida, SHUNRI ODA.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ 17p-ZE-1       
出版年月 2010年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第71回応用物理学会学術講演会 
英文: 
開催地
和文:長崎市 
英文: 

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