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論文・著書情報


タイトル
和文:ナノインプリントレジストをマスクに用いたCl2-ICP エッチングによるSi-HCG 構造の形成 
英文:Microfabrication of Si based High-Index-Contrast-Grating Structure by Cl2-ICP Etching Using Nanoimprint Resist Mask 
著者
和文: 松谷晃宏, 橋爪佑樹, 大槻秀夫, 小山二三夫.  
英文: Akihiro Matsutani, Yuuki Hashidume, Hideo ohtsuki, Fumio Koyama.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:春季第58回応用物理学関係連合講演会 
英文:The 58th Spring Meeting of Japan Society of Applied Physics and Related Societies 
巻, 号, ページ     26p-KN-9   
出版年月 2011年3月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文:神奈川 
英文:Kanagawa 

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