ナノインプリントレジストをマスクに用いたCl2-ICP エッチングによるSi-HCG 構造の形成

論文・著書情報

タイトル

和文:	ナノインプリントレジストをマスクに用いたCl2-ICP エッチングによるSi-HCG 構造の形成
英文:	Microfabrication of Si based High-Index-Contrast-Grating Structure by Cl2-ICP Etching Using Nanoimprint Resist Mask

著者

和文:	松谷晃宏, 橋爪佑樹, 大槻秀夫, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Yuuki Hashidume, Hideo ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	春季第58回応用物理学関係連合講演会
英文:	The 58th Spring Meeting of Japan Society of Applied Physics and Related Societies

巻, 号, ページ

26p-KN-9

出版年月

2011年3月

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:	神奈川
英文:	Kanagawa