ナノインプリントプロセスとCl2-ICPエッチングによるSi-HCGの製作と光学特性の評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	ナノインプリントプロセスとCl2-ICPエッチングによるSi-HCGの製作と光学特性の評価
英文:	Optical Characterization of Si based High-Index-Contrast-Grating fabricated by Cl2-ICP Etching and Nanoimprint Process

著者

和文:	松谷晃宏, 橋爪佑樹, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Yuuki Hashidume, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会
英文:	The 72nd Autumn Meeting of Japan Society of Applied Physics

巻, 号, ページ

2a-ZJ-6

出版年月

2011年8月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:	山形
英文:	Yamagata