EUV and SXR Sources Based on Discharge Produced Plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	EUV and SXR Sources Based on Discharge Produced Plasma

著者

和文:	堀田栄喜, 酒井雄祐, ｽﾞｷｭｼ, Huang Bin, 熊井英章, 渡邊正人.
英文:	Eiki Hotta, Yusuke Sakai, Qiushi Zhu, Bin Huang, Hideaki Kumai, Masato Watanabe.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	2011 International Academic Symposium on Optoeletcronics and Microelectronics Technology (IASOMT 2011)

巻, 号, ページ

pp. 4-7

出版年月

2011年12月28日

出版者

和文:
英文:	IEEE

会議名称

和文:
英文:	2011 International Academic Symposium on Optoeletcronics and Microelectronics Technology (IASOMT 2011)

開催地

和文:
英文:	Harbin

DOI