Fabrication and characterization of Si/SiO2 high contrast grating using nanoimprint lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication and characterization of Si/SiO2 high contrast grating using nanoimprint lithography

著者

和文:	橋詰悠紀, 宮毛泰光, 松谷晃宏, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.
英文:	Yuuki Hashizume, Yasumitsu Miyake, Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

8270-7

出版年月

2012年1月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Photonics West 2012, SPIE

開催地

和文:
英文:	California