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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Fabrication and characterization of Si/SiO2 high contrast grating using nanoimprint lithography 
著者
和文: 橋詰 悠紀, 宮毛 泰光, 松谷 晃宏, Hideo Ohtsuki, 小山 二三夫.  
英文: Yuuki Hashizume, Yasumitsu Miyake, Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ     8270-7   
出版年月 2012年1月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:Photonics West 2012, SPIE 
開催地
和文: 
英文:California 

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