CVD法によるGd2O3添加CeO2電解質薄膜の低温製膜とその電気特性

論文・著書情報

タイトル

和文:	CVD法によるGd2O3添加CeO2電解質薄膜の低温製膜とその電気特性
英文:	Low temperature deposition of Gd2O3 doped CeO2 films by chemical vapor deposition and its electrical properties

著者

和文:	田中宏樹, クロスジェフリースコット, 塩田忠, 篠崎和夫, 櫻井修, 木口賢紀, 脇谷尚樹, 東慎太郎.
英文:	Hiroki Tanaka, Jeffrey Scott Cross, tadashi shiota, KAZUO SHINOZAKI, osamu sakurai, Takanori Kiguchi, naoki wakiya, 東慎太郎.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会２０１２年年会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

3D08 p. 292

出版年月

2012年3月21日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本セラミックス協会２０１２年年会
英文:

開催地

和文:	京都
英文: