English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京工業大学
東京工業大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Effect of current density on mechanical properties of electrodeposited Cu film evaluated by micro-pillar compression test method
著者
和文:
武藤 雅英
,
名越 貴志
,
TSO-FU MARK CHANG
,
曽根 正人
.
英文:
Masahide Mutoh
,
Takashi Nagoshi
,
Tso-Fu Mark Chang
,
Masato Sone
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
pp. in press
出版年月
2012年8月19日
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
ISE2012, 63rd annual meeting of the International Society of Electrochemistry
開催地
和文:
英文:
Prague
©2007
Tokyo Institute of Technology All rights reserved.