Inductively Coupled Plasma Etching of Silicon Using Solid Iodine as an Etching Gas Source

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Inductively Coupled Plasma Etching of Silicon Using Solid Iodine as an Etching Gas Source

著者

和文:	松谷晃宏, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 50 06GG07

出版年月

2011年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

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DOI