Microfabrication of Si-Based High-Index-Contrast-Grating Structure by Thermal Nanoimprint Lithography and Cl2/Xe-Inductively Coupled Plasma Etching

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Microfabrication of Si-Based High-Index-Contrast-Grating Structure by Thermal Nanoimprint Lithography and Cl2/Xe-Inductively Coupled Plasma Etching

著者

和文:	松谷晃宏, 橋爪佑樹, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Yuuki Hashidume, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 51 06FF05

出版年月

2012年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: