Nucleation of W during chemical vapor deposition from WF6 and SiH4

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Nucleation of W during chemical vapor deposition from WF6 and SiH4

著者

和文:	梶川裕矢, T. Tsumura, S. Noda, H. Komiyama, Y. Shimogaki.
英文:	Y. Kajikawa, T. Tsumura, S. Noda, H. Komiyama, Y. Shimogaki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 43 Issue 6S pp. 3945-3950

出版年月

2004年6月29日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: