Incubation time during the CVD of Si onto SiO2 from silane

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Incubation time during the CVD of Si onto SiO2 from silane

著者

和文:	梶川裕矢, T. Tsuchiya, S. Noda, H. Komiyama.
英文:	Y. Kajikawa, T. Tsuchiya, S. Noda, H. Komiyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Chemical Vapor Deposition

巻, 号, ページ

Vol. 10 Issue 3 pp. 128-133

出版年月

2004年6月29日

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

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英文: