Preferred orientation and film structure of TaN films deposited by reactive magnetron sputtering

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Preferred orientation and film structure of TaN films deposited by reactive magnetron sputtering

著者

和文:	S. Noda, K. Tepsanongsuk, Y. Tsuji, 梶川裕矢, Y. Ogawa, H. Komiyama.
英文:	S. Noda, K. Tepsanongsuk, Y. Tsuji, Y. Kajikawa, Y. Ogawa, H. Komiyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Vacuum Science Technology A

巻, 号, ページ

Vol. 22 Issue 2 pp. 332-338

出版年月

2004年2月12日

出版者

和文:
英文:

会議名称

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英文:

開催地

和文:
英文: