窒素プラズマ活性化を用いたIII-V/Si直接貼付とそのハイブリッドレーザへの応用

論文・著書情報

タイトル

和文:	窒素プラズマ活性化を用いたIII-V/Si直接貼付とそのハイブリッドレーザへの応用
英文:	III-V/Si Direct Bonding by N2 Plasma Surface Activation and Its Application to Hybrid Laser

著者

和文:	林侑介, 長部亮, 福田渓太, 鈴木純一, 渥美裕樹, 姜晙炫, 西山伸彦, 荒井滋久.
英文:	Yuusuke Hayashi, Ryou Osabe, Keita Fukuda, Junichi Suzuki, Yuki Atsumi, JoonHyun Kang, Nobuhiko Nishiyama, SHIGEHISA ARAI.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2012年12月13日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	レーザ・量子エレクトロニクス研究会
英文:	Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics(LQE)

開催地

和文:	東京
英文: