Influence of source/drain formation process on resistance and effective mobility for scaled multi-channel MOSFET”

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Influence of source/drain formation process on resistance and effective mobility for scaled multi-channel MOSFET”

著者

和文:	舘喜一, N. Vulliet, S. Barraud, 角嶋邦之, 岩井洋, S. Cristoloveanu, T. Ernst.
英文:	Kiichi Tachi, N. Vulliet, S. Barraud, Kuniyuki KAKUSHIMA, HIROSHI IWAI, S. Cristoloveanu, T. Ernst.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Solid-State Electronics

巻, 号, ページ

Vol. 65-66 pp. 16-21

出版年月

2011年11月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI