Preparation and Electrical Characterization of CeO2 Films for Gate Dielectrics Application: Comparative Study of Chemical Vapor Deposition and Atomic Layer Deposition Processes

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Preparation and Electrical Characterization of CeO2 Films for Gate Dielectrics Application: Comparative Study of Chemical Vapor Deposition and Atomic Layer Deposition Processes

著者

和文:	幸田みゆき, 小澤健児, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 岩井洋, ト部友二, 安田哲二.
英文:	Miyuki Kouda, Kenji Ozawa, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, HIROSHI IWAI, ト部友二, 安田哲二.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 50 No. 10 pp. 10PA06-1-4

出版年月

2011年10月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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