【重要】T2R2・STARSearchの停止と後継システムについて
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タイトル
和文:
半正定値緩和法を用いたLELECUTトリプルパターニングのためのレイアウト分割手法
英文:
LELECUT Triple Patterning Lithography Layout Decomposition using Positive Semidefinite Relaxation
著者
和文:
小平行秀
,
松井知己
, 横山陽子, 児玉親亮,
高橋篤司
, 野嶋茂樹, 田中聡.
英文:
Yukihide Kohira
,
Tomomi Matsui
, Yoko Yokoyama, Chikaaki Kodama,
Atsushi Takahashi
, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka.
言語
Japanese
掲載誌/書名
和文:
電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2014-6)
英文:
IEICE Technical Report (VLD2014-6)
巻, 号, ページ
Vol. 114 No. 59 pp. 27-32
出版年月
2014年5月29日
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
VLSI設計技術研究会
英文:
Technical Committee on VLSI Design Technologies
開催地
和文:
英文:
公式リンク
http://id.nii.ac.jp/1001/00101397/
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