Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Dry Etching of 4H-SiC using Ar/F2 Plasma 
著者
和文: 松谷 晃宏, 小山 二三夫.  
英文: Akihiro Matsutani, Fumio Koyama.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ 6P-7-34       
出版年月 2014年11月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC2014 
開催地
和文: 
英文:Fukuoka 

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.