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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Dry etching of SiC using Ar/F2 plasma and XeF2 plasma 
著者
和文: 松谷晃宏, 小山二三夫.  
英文: Akihiro Matsutani, FUMIO KOYAMA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics 
巻, 号, ページ vol. 54        p. 06GB01
出版年月 2015年5月11日 
出版者
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会議名称
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開催地
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公式リンク http://stacks.iop.org/JJAP/54/06GB01
 

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