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論文・著書情報


タイトル
和文:ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON構造のin-situ形成プロセスと3次元ゲートデバイス応用に関する研究 
英文: 
著者
和文: 佐野貴洋.  
英文: Takahiro Sano.  
種別
種別:学位論文(博士) 
国名:日本 
言語 Japanese 
学位授与組織 東京工業大学 
報告番号 甲第8800号 
学位授与日 2012/03/26 
審査員 大見 俊一郎.  
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