Laser-Assisted Counter-Facing Plasma Focus Device as a Light Source for EUV Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Laser-Assisted Counter-Facing Plasma Focus Device as a Light Source for EUV Lithography

著者

和文:	袖子田竜也, Shintaro Kurata, Hajime Kuwabara, 川﨑朋晃, 橘高祥太郎, 堀岡一彦.
英文:	Tatsuya Sodekoda, Shintaro Kurata, Hajime Kuwabara, Tomoaki Kawasaki, Shotaro Kittaka, Kazuhiko Horioka.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	IEEE Transactions on Plasma Scienece

巻, 号, ページ

Vol. 99 pp. 1-7

出版年月

2017年4月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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英文:

DOI