スルファミン酸ハイスピード浴を⽤いて電気めっきしたニッケル膜の機械的特性に及ぼす電流密度の影響

論文・著書情報

タイトル

和文:	スルファミン酸ハイスピード浴を⽤いて電気めっきしたニッケル膜の機械的特性に及ぼす電流密度の影響
英文:

著者

和文:	⼭本貴⼤, 井川健吾, Chun-Yi Chen, Tso-Fu Mark Chang, 名越貴志, 工藤緯, 前田龍, 曽根正人.
英文:	Takahiro Yamamoto, Kengo Igawa, Chun Yi Chen, Tso-Fu Mark Chang, Takashi Nagoshi, Osamu Kudo, Ryu Maeda, Masato Sone.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	応用物理学会第65回春季講演会
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年3月17日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	応用物理学会第６５回春季講演会
英文:

開催地

和文:	東京
英文: