Effect of RF power on the properties of intrinsic hydrogenated amorphous silicon passivation layer deposited by facing target sputtering

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of RF power on the properties of intrinsic hydrogenated amorphous silicon passivation layer deposited by facing target sputtering

著者

和文:	白取優大, ファリスアキラビンモハマドズルキフリ, 中田和吉, 宮島晋介.
英文:	Yuta Shiratori, Faris Akira Bin Mohd Zulkifly, Kazuyoshi Nakada, Shinsuke Miyajima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Applied Physics Express

巻, 号, ページ

Vol. 11 031301

出版年月

2018年1月31日

出版者

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会議名称

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開催地

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