[19a-D101-7] 2段階製膜を用いたFTS法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜

論文・著書情報

タイトル

和文:	[19a-D101-7] 2段階製膜を用いたFTS法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜
英文:	[19a-D101-7] i-a-Si:H passivation layer deposited by facing target sputtering using 2-step deposition

著者

和文:	Faris Akira Bin Mohd Zulkifly, 白取優大, 中田和吉, 宮島晋介.
英文:	Faris Akira Bin Mohd Zulkifly, Yuta Shiratori, Kazuyoshi Nakada, Shinsuke Miyajima.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年3月5日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第65回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 65th JSAP Spring Meeting

開催地

和文:	東京
英文:	Tokyo