Yield-aware mask assignment by positive semidefinite relaxation in triple patterning using cut process

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Yield-aware mask assignment by positive semidefinite relaxation in triple patterning using cut process

著者

和文:	小平行秀, Chikaaki Kodama, 松井知己, 高橋篤司, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka.
英文:	Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3)

巻, 号, ページ

Vol. 15 No. 2 pp. 1-7

出版年月

2016年3月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI