High-Mobility and Low-Carrier-Density Sputtered-MoS2 Film by Low-Temperature Forming-Gas Annealing for 3D-IC

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	High-Mobility and Low-Carrier-Density Sputtered-MoS2 Film by Low-Temperature Forming-Gas Annealing for 3D-IC

著者

和文:	清水淳一, 大橋匠, 松浦賢太朗, 宗田伊理也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
英文:	J. Shimizu, T. Ohashi, K. Matsuura, I. Muneta, K. Kakushima, K. Tsutsui, H. Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2016年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Conference on Solid State Devices and Materials

開催地

和文:	筑波
英文:	Tsukuba