DC and RF performance improvement of 70nm quantum well field effect transistor by narrowing source - drain spacing technology

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	DC and RF performance improvement of 70nm quantum well field effect transistor by narrowing source - drain spacing technology

著者

和文:	Kuo, C.-I., Hsu, H.-T., Chang, E.Y., 宮本恭幸, Wu, C.-Y., Chen, Y.-L., Hsiao, Y.-L..
英文:	Kuo, C.-I., Hsu, H.-T., Chang, E.Y., YASUYUKI MIYAMOTO, Wu, C.-Y., Chen, Y.-L., Hsiao, Y.-L..

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 49 No. 1 Part 1

出版年月

2010年

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
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DOI