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論文・著書情報


タイトル
和文:MoOx正孔選択層におけるSiOx界面層挿入によるパッシベーション効果 
英文:Passivation effect of SiOx interfacial layer in MoOx hole selective contact 
著者
和文: 中田 和吉.  
英文: Kazuyoshi Nakada.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2018年9月18日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第79回応用物理学会秋季学術講演会 
英文:The 79th JSAP Autumn Meeting 
開催地
和文:名古屋 
英文:Nagoya 

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