Crystallization behavior and ferroelectric property of HfO2–ZrO2 films fabricated by chemical solution deposition

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Crystallization behavior and ferroelectric property of HfO2–ZrO2 films fabricated by chemical solution deposition

著者

和文:	Shuhei Nakayama, 舟窪浩, 内田寛.
英文:	Shuhei Nakayama, Hiroshi Funakubo, Hiroshi Uchida.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 57 pp. 11UF06-1-5

出版年月

2018年9月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI