2段階シリサイド化によるHf混晶化極薄PtSiの耐熱性向上に関する検討

論文・著書情報

タイトル

和文:	2段階シリサイド化によるHf混晶化極薄PtSiの耐熱性向上に関する検討
英文:

著者

和文:	高峻, 石川純平, 大見俊一郎.
英文:	高峻, 石川純平, Shun-ichiro OHMI.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会論文誌. C, エレクトロニクス = The transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 93 No. 10 pp. 346-352

出版年月

2010年10月1日

出版者

和文:	一般社団法人電子情報通信学会
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: