Influence of Si(100) surface flattening process on nonvolatile memory characteristics of Hf-based MONOS structures

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Influence of Si(100) surface flattening process on nonvolatile memory characteristics of Hf-based MONOS structures

著者

和文:	Kudoh, Sohya, 大見俊一郎.
英文:	Kudoh, Sohya, Shun-ichiro OHMI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	2017 75TH ANNUAL DEVICE RESEARCH CONFERENCE (DRC)

巻, 号, ページ

出版年月

2017年

出版者

和文:
英文:	IEEE

会議名称

和文:
英文:	75th Annual Device Research Conference (DRC)

開催地

和文:
英文:	Univ Notre Dame, South Bend