[20p-E314-6] 対向ターゲットスパッタ法による高品質i-a-Si:H層の形成とシリコンヘテロ接合太陽電池への応用

論文・著書情報

タイトル

和文:	[20p-E314-6] 対向ターゲットスパッタ法による高品質i-a-Si:H層の形成とシリコンヘテロ接合太陽電池への応用
英文:	[20p-E314-6] Deposition of high quality i-a-Si:H film by facing target sputtering and its application to silicon heterojunction solar cell

著者

和文:	白取優大, 宮島晋介.
英文:	Yuta Shiratori, Shinsuke Miyajima.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年9月18日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第80回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 80th JSAP Autumn Meeting

開催地

和文:	札幌
英文:	Sapporo