0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法

論文・著書情報

タイトル

和文:	0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法
英文:	Process Variation-aware Model-based OPC using 0-1 Quadratic Programming

著者

和文:	東梨奈, 小平行秀, 松井知己, 高橋篤司, 児玉親亮, 野嶋茂樹.
英文:	Rina Azuma, Yukihide Kohira, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama, Shigeki Nojima.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2018-70)
英文:	IEICE Technical Report (VLD2018-70)

巻, 号, ページ

Vol. 118 No. 334 pp. 209-214

出版年月

2018年12月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	VLSI設計技術研究会
英文:	Technical Committee on VLSI Design Technologies

開催地

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