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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Room-temperature deposition of ferroelectric HfO2-based films by the sputtering metho 
著者
和文: 三村 和仙, 清水 荘雄, 内田 寛, 舟窪 浩.  
英文: Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Appl. Phys. Lett. 
巻, 号, ページ Vol. 116        pp. 062901-1-5
出版年月 2020年2月11日 
出版者
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会議名称
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開催地
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英文: 
DOI https://doi.org/10.1063/1.5140612

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